EC8000 

MRAM用刻蚀机

NC8000是非挥发存储器MRAM的MTJ层多层膜的刻蚀设备。

配置RIE和IBE的刻蚀腔，依据多种磁性材料刻蚀时的不同要求选择使用。实现多层膜一次刻蚀的工艺及生产性。

同时配置刻蚀后的保护膜用的CVD腔。 

长年和溅射设备的配合开发及量产经验可配合各种MTJ构造及工艺

公司名称：佳能光学设备（上海）有限公司

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